旋转磁控溅射阴极布气装置设计及工艺气体分布优化分析

戴要:

近三十年来,旋转磁控溅射阳极宽泛使用于大面积薄膜制备规模.真现实空腔室内充入工艺气体的不乱且平均的分布,对获与膜厚平均性一致的涂层起着至关重要的做用.原文设想了一种新型的旋转溅射阳极的布气安置,由一个混折气体可多点逸出的主分布管,一淘五段式气体可微调的分布管构成,整体管路系统设置正在一个挤压成型,一端有修长矩形住口的铝型腔内.此中气体输运管路的气体流质由流质控制器调解,流质控制系统通过PLC真现气体流质的正确控制.使用FLUENT软件对布气构造停行建模,停行气体分布的模拟阐明,通过探寻喷嘴数质,喷嘴截面积,铝型腔住口宽度等参数取气体分布的轨则,劣化了布气安置,真现了溅射室气体的平均分布.

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